日本大塚电子 OTSUKA | 分光精密测量，赋能纳米智造全流程分享

更新时间：2026-07-06

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深耕光学分光检测四十余年，日本大塚电子以自研 MCPD 多通道光谱核心技术，打造无损、高速、

高精度薄膜与材料光学检测全系列设备。

依托光谱干涉多层膜解析、3μm 微区显微光学、高速并行光谱采集三大技术，实现从 3nm 超薄膜到 92μm

厚涂层全覆盖测量，同步输出膜厚、折射率 n、消光系数 k 核心光学参数。

全系设备非接触无损伤，毫秒级高速采样，既可满足半导体、第三代半导体、OLED 实验室微区精密标定，

也可直接集成卷对卷涂布、锂电极片、晶圆产线做在线实时监控；配套 Zeta 电位、三维光学缺陷检测设备，

打通原料粉体 — 功能薄膜 — 成品光学性能全链条表征。

遵循日本 JIS 工业计量标准，搭载光纤模块化光路，支持自动化产线定制对接、远程数据追溯，

兼顾研发高精度与量产高效率，是全球薄膜、半导体、显示、新能源行业的光学测量基准方案提供商。

✅ 自研 MCPD 多通道分光核心，5μs 极速光谱扫描，杂散光抑制行业

✅ 分光干涉算法，单次解析 50 层薄膜，同步输出 n/k 光学常数

✅ OPTM 显微膜厚仪：3μm 微区光斑，1 秒完成对焦 + 测量，媲美椭偏仪

✅ FE-300 在线膜厚监测仪，适配光学膜、锂电涂布全线宽实时监控

✅ 全系列无损非接触测量，不损伤晶圆、光学膜等高价值样品

✅ 覆盖半导体 SiC/GaN、OLED、光学薄膜、新能源锂电全赛道

从实验室研发到量产在线监控，一站式纳米薄膜光学测量解决方案，

日本原厂精密光学技术，稳定高重现，支持产线嵌入式定制集成。

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