近期我司新推出日本otsuka大塚电子 FE-300F 薄膜厚度监测仪
产品信息
特征
结构紧凑、成本低廉且易于操作的薄膜厚度测量仪
可通过选择光谱仪和光源来选择测量薄膜厚度范围。
条件设定和测量操作都很简单，任何人都能轻松完成测量。
配备实时监控功能和模拟功能
测量光斑直径为φ1.2毫米，可测量厚度范围从3纳米到35微米的薄膜，从薄到厚。
测量项目
反射率测量
薄膜厚度分析（10层）
光学常数分析（n：折射率，k：消光系数）
测量目标
功能薄膜、塑料
透明导电薄膜（ITO、银纳米线）、缓释膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、压敏胶、保护膜、硬涂层、防指纹剂等。
半导体化合物
半导体、硅、氧化物薄膜、氮化物薄膜、光刻胶、碳化硅、砷化镓、氮化镓、磷化铟、砷化铟镓、绝缘体上硅、蓝宝石等。
表面处理：
DLC涂层、防锈剂、防雾剂等。
光学材料
滤光片、增透膜等。
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机薄膜、封装材料）等。
其他
硬盘驱动器、磁带、建筑材料等。
原则
测量原理
大塚电子利用光学干涉法及其自主研发的高精度分光光度计，实现了非接触式、无损、高速、高精度的薄膜厚度测量。光学干涉法是一种利用分光光度计光学系统获取反射率来确定薄膜厚度的方法，如图2所示。以涂覆在金属基底上的薄膜为例（如图1所示），从样品上方入射的光会被薄膜表面（R1）反射。此外，穿过薄膜的光会被基底（金属）和薄膜界面（R2）反射。光学干涉法测量由光程差引起的相位偏移所导致的光学干涉现象，并根据所得反射光谱和折射率计算薄膜厚度。目前有四种分析方法：峰谷分析法、频率分析法、非线性最小二乘法和优化法。
产品分类
更新时间：2026-04-07 
浏览次数：10
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